现代污水处理技术
按半导体污水处理企业的特点,将半导体废水分为三大类,分别来自于生产过程中产生的含氟废水、有机废水和金属离子废水。
一是含氟废水,废水主要来自半导体生产工序的腐蚀段,由于使用了大量的氢氟酸、氟化铵等试剂,污染物浓度较高,如氟、氨等,废水一般呈强酸性;
二是有机废水,其污染物主要是一些常规污染物,生产浓度与生产工艺和运行管理水平密切相关,cod一般在200~3000mg/l;
三是金属离子废水,半导体生产废水中的金属离子种类很多,主要有铜、镍、锡、铅、银等,一般浓度在几十mg/l左右。
四是含氨废水,含氨废水主要污染物是氨氮,浓度一般在100-300mg/l
含氟废水一般采用化学沉降法,投加钙盐和水中氟离子形成caf2,再配以混凝剂辅助可除去水中氟离子。出水率要求高时,可与生化法、吸附法等联合使用。
一般采用经济的生化处理方法处理有机废水,如分别好氧法或与缺氧厌氧法结合处理,对废水中cod、氨氮、总氮等常规污染物的去除效果十分可观。
对于金属离子废水,则需要根据废水的不同种类进行选择,常用的有化学沉降法,吸附法,离子交换法等。半导体工业生产对水的需求很大,对水的要求也不高,为了节约生产成本,一般建议采用废水回用处理。
含氨废水的处理,根据废水中氨氮含量选择不同的工艺,常用的有吹脱法,化学沉降法,折点加氯法等,几种工艺均能实现氨氮的去除。
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