客户名称: 某知名半导体制造企业
客户简介: 美资企业,全球领先的电子制造服务供应商之一。无锡工厂为通信、消费电子、汽车电子及工业控制等领域提供从设计、制造到供应链管理的全方位服务。
项目简介:服务于该客户精密电子元器件生产线的超纯水系统,制取的超纯水用于PCB板清洗、元器件封装及精密组装等工艺环节,对水质离子含量及有机污染物有严格要求。系统设计产水能力 4T/H,满足生产线连续用水需求。
进水水质: 市政自来水(无锡地区,电导率约300–500 μS/cm)
出水标准: 电阻率 ≥18 MΩ·cm(25℃),TOC <20 ppb,产水量 4T/H
工艺系统核心:
采用“超滤(UF)+ 双级反渗透(2RO)+ 连续电除盐(EDI)+ TOC降解单元 + 抛光混床”多级组合工艺。
超滤作为RO前处理,有效去除胶体、微粒及部分微生物,保障RO膜长期稳定运行;
双级RO高效脱除原水中99%以上离子及有机物;
EDI连续电除盐实现稳定脱盐,避免酸碱再生污染;
TOC降解单元(如185nm紫外灯)将TOC控制在<20 ppb;
抛光混床终端精处理,确保电阻率稳定 ≥18 MΩ·cm;
系统具备全自动运行及水质在线监测功能,适应电子制造业连续生产需求。




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