光催化氧处理设备

光催化氧化是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光催化剂本身不发生变化。

当化学物质通过吸收能量(如热能、光子能量等)，可以使自身的化学性质变得更加活跃甚至被裂解。当吸收的能量大于化学键键能，即可使得化学键断裂，形成游离的带有能量的原子或基团。当波段内的真空紫外线(波长范围内184.9nm-253.7nm)，促使有机废气物质通过吸收该波段的光子，而该波段的光子能量大于绝大多数的化学键键能，使得有机物质得以裂解；再通过裂解产生的臭氧将其氧化成简单、无害、稳定的物质，如H2O和CO2等。

光催化氧处理设备

适用范围：

适用于炼油厂、家俱厂、喷漆喷塑烤漆、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站、屠宰厂等恶臭气体的脱臭净化处理。

设备占地面积小，自重轻：适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件，设备占地面积＜1平方米/处理10000m3/h风量

（1）净化效率高、运行稳定；

（2）结构紧凑、新颖、体积小、重量轻、模块化结构设计；

（3）噪声小于45db(A)、风阻小于300 Pa;

（4）运行成本低、耗电功率小;

（5）清洗及维护方便、使用寿命长；

（6）安全可靠，价格合理。

（7）设备占地面积小，自重轻：适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件，设备占地面积＜1平方米/处理10000m3/h风量。