点击图片查看原图坚膜无尘烤箱，半导体无尘烘箱概述
无尘烤箱用于高精度硅上薄膜电阻制造过程中坚膜工艺。也用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤。
坚膜无尘烤箱特点
1、 烤箱用于半导体车间100级生产线；
2、 设备能够实现对CASETTE内硅片烘烤工艺；
3、 全周氩焊，耐高温硅胶破紧，SUS304#不锈钢电热生产器，防机台本身所产生微尘；
4、 开机后墙体内一直处于恒温状态；
5、 强制送风循环方式，双风道循环结构，温度场分布均匀，智能P.I.D温控系统，得到高精度温度控制；
6、操做人员放入产品后关门，点击开始按钮即可一键完成菜单工艺，完成后伴有声光提示。
坚膜无尘烤箱，半导体无尘烘箱技术参数
1、 无尘等级：Class 100;
2、 温度均匀度：±2℃;
3、 温度波动度：±0.5℃（空载）；
4、 温控精度：±0.1℃;
5、 温度范围：RT+10-200/300℃;
6、 升温速率：≥8℃/min（可修改）；
7、 内腔材质：SUS304＃镜面不锈钢；
8、 外箱材质：优质冷轧板喷塑或SUS304＃不锈钢；
9、 密封条：耐高温氟橡胶密封条；
10、氮气装置：可调式浮子流量计；
11、安全装置：漏电保护，超温保护，三色提示灯等。
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