电子超纯水设备去离子设备是采用RO+EDI技术设计，关键部件、设备采用进口产品，工艺*，质量可靠，可扩展性强，结构合理占地小，水利用率高，能耗低，全自动化运行，操作维护简单。根据用户要求设计制造反渗透系统，一般产水下限0.25m3/hr，上限不限，水回收率一般可达75%以上，脱盐率＞98%。产水量随进水温度下降和反渗透膜老化或受污染有一定变化。我公司采用的现代超纯水制造工业
超纯水去离子设备典型工艺流程为：
1、预处理－反渗透－纯化水箱－离子交换器－紫外灯-纯水泵－用水点
2、预处理－一级反渗透－二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯化水箱－纯水泵-紫外灯－用水点
3、预处理－反渗透－中间水箱－中间水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵-紫外灯－用水点
4、预处理→紫外线杀菌装置→一级RO装置→二级RO装置→中间水箱→EDI装置→脱氧装置→氮封纯水箱→除TOC UV装置→抛光混床→超滤装置→用水点水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级）

超纯水设备去离子设备电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 电子管生产　电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产　玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 液晶显示器的生产　屏面需用纯水清洗和用纯水配液 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中超纯水去离子设备清洗硅片。