半导体污水处理，电化学半导体费水，电子厂废水处理。

随着电子产品应用领域日益扩大，半导体对我国发展具有重要的意义。半导体涉及行业广泛，根据生产原料及工序的不同，产生废水的废水性质也不同，但都存在着排水量大，污染能力强的特点，严重危害生态环境健康的同时也制约其发展。

概述

随着电子产品应用领域日益扩大，半导体对我国发展具有重要的意义。半导体涉及行业广泛，根据生产原料及工序的不同，产生废水的废水性质也不同，但都存在着排水量大，污染能力强的特点，严重危害生态环境健康的同时也制约其发展。

污水来源及水质特点

根据半导体生产废水污染物的特点，可将半导体废水分为三类，主要来源于生产过程中产生的含氟废水、有机废水及金属离子废水，详细介绍如下：

1、含氟废水，废水主要来自于半导体生产工序的刻蚀段，由于使用了大量的氢氟酸、氟化铵等试剂，产生的污染如氟化物、氨氮等浓度较高，废水一般呈强酸性；

2、有机废水，其污染物质主要是一些常规污染物，生产浓度跟生产工艺及操作管理水平关系较大，COD一般在200～3000mg/L；

金属离子废水，半导体废水中的金属离子种类众多，主要如铜、镍、锡、铅、银等，浓度一般在几十mg/L。

处理难点分析

高浓度的含氟废水处理难度大，一般的化学沉淀法难以彻底去除水中的氟离子，在排放要求高的时候，应对其采用多种组合工艺处理，其中主要讲一下高级氧化电化学设备。

1、电絮凝设备运作运行稳定，水质处理效果稳定，也避免了由于药剂质量变化、药剂配比量的变化、药剂投加量的变化以及水质变化等因素造成的处理质量的不稳定。

2、电絮凝法产生的氢氧化物甚至比使用药剂的活性还要高高，吸附能力增强,处理效果提升。

3、在电絮凝处理废水的反应过程中，电极板阳极上产生的氧和氯可使有机物发生氧化而成为无害成分，并且能起到杀菌作用。

4、在电絮凝过程中，电极板阴极上发生的还原作用，能使得氧化型色素还原氧化成为无色物质。

5、电絮凝设备紧凑、自动化程度高，占地面积小，管理简易简单，对操作人员的要求很低，节省人力。

 电絮凝设备结构组成

 全套设备是由电解槽、电极材料、配套直流电源和辅助设备四部分组成。电解槽箱体由耐腐蚀PP材料或“碳钢+防腐”材料制成，沐东环保内部放置电极板，配套的直流电源将380V交流电转化为直流电。辅助设备由用户根据需要自行配置，包含水泵、气泵、管线、阀门、斜管沉淀池等。

 电絮凝设备调试及使用方法说明

1、操作流程

 打开进、出水阀门，启动进水泵及酸加药装置，向电解槽内泵入待处理废水。调节阀门开度，控制进水流量，保证废水在槽体内停留时间符合设计要求；设备注满废水后，开启电源并调节电源参数。

2、电源输出调节

 打开电源的进线开关，再打开控制器上的直流开关，等待5秒。缓慢顺时针方向旋转调节旋钮，增大输出，观察电流和电压数值。在稳流的工作方式下，把输出电流调节到需要的数值，电压会根据废水的电导率在某一定值附近自动调整，定时记录数据。建议电絮凝处理时间为30～60min，具体停留时间根据原水水质和工艺要求确定。

3、关机

1）把电源控制面板上的输出旋钮调至最小，关闭直流电源开关。

3）关闭进水泵，曝气装置，切断总电源开关。

4）使用过程的注意事项

 设备开始使用后，停机时应保证极板及填料淹没在水中，沐东环保防止极板及填料在空气中氧化锈蚀，减少使用寿命。

5）切断电源的交流输入开关

对于不同种类的高浓度金属离子废水，应该分开收集进行处理，若废水中含金属离子种类较多，工艺流程会较长。

污水处理工艺：

含氟废水一般采用化学沉淀法，投加钙盐与水中的氟离子形成CaF2，再加以混凝剂辅助即可去除水中的氟离子。出水要求高时，可与生化法、吸附法等联合运用。

有机废水一般采用经济高效的生化法，如单独的好氧法或与缺氧法、厌氧法组合工艺，对于废水中COD、氨氮、总氮等常规污染物去除效果非常可观。

金属离子废水则需针对不同废水不同种类进行选择，常用的有化学沉淀法、吸附法、离子交换法等。

半导体行业生产需水甚多，用水要求不高，一般建议将废水做回用处理，以节约生产成本。具体可见我司零排放及中水回用单元。