PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD纳米涂层通常称谓：镀钛,真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD镀钛，纳米镀钛，纳米涂层，真空镀钛加工，真空涂层，表面处理等.

  真空镀钛涂层特点：增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等使用性能广泛应用于模具工业中。

多元复合涂层种类：氮化钛(TiN), 氮化铬(CrN), 氮化铝钛(TiAlN), 高铝钛(AlTiN), 氮碳化钛(TiCN), 氮碳化铬(CrCN)等各种超硬膜层，其涂层厚度大概0.5～5um，故而您不用担心会给尺寸带来麻烦，并以新工艺使产品具有良好的润滑、散热（干式），使工件寿命可增加工作效力，从而降低生产成本。