PT-T1200X-TP实验室高温CVD真空管式炉是CE认证的管式炉，带有石英管（尺寸可选）和铰接式法兰。这样的配置允许容易的样品加载/卸载。30段温度控制器安装有K型热电偶。基于微处理器的自整定PID提供了出色的控制，没有超调和+/- 1°C的精度。这是在各种气体气氛下进行样品退火，扩散和烧结的出色熔炉，高可达1200°C。

实验室高温CVD真空管式炉适用范围：

该款高温CVD金刚石真空管炉广泛应用于冶金，陶瓷，玻璃，机械，分析测试，半导体，科学研究等领域。

注：管式炉可按用户需求选配合适的款型

可选配件：液晶触摸控制仪
详细参数：

模型		PT-T1200X-TP	PT-T1400X-TP		PT-T1600X-TP
高温度		1200	1400		1600
工作温度		1100	1300		1550
加热元件		电阻丝	碳化硅		MoSi2
热电偶		K型	S型		B型
管材		高纯石英	氧化铝		氧化铝
箱体材质		陶瓷纤维
加热速度		0-20C /分钟
温度控制精度		+/- 1摄氏度
温度均匀度		+/- 5摄氏度
标准股
管尺寸（mm）	加热区长度（mm）	管尺寸（mm）		加热区长度（mm）
30	300	80		300
40	300	80		440
40	440	100		440
60	300	120		440
60	440	100		440