一、反渗透设备工艺流程图：

二、工艺流程简介：

1.多介质过滤器：
      采用多层滤料，采用石英砂多介质过滤器，主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20 m以上对人体有害的物质，系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。

2.活性炭过滤器：

      果壳活性炭，具有吸附的功能；提升产水净化程度；能去除水中的异味、有机物、色度、胶体、铁及余氯等。采用果壳活性碳过滤器，目的是为了去除水中的色素、异味、生化有机物、降低水的余氯值及农药污染和其他对人体有害的污染物。系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。

3.采用阳离子交换树脂：

      利用树脂吸附水中钙镁离子，防止其在反渗透膜表面结晶析出。采用阳树脂对水进行软化，主要是降低水的硬度，去除水中的钙、镁离子(形成水垢的主要成分)，可延长反渗透膜的使用寿命。    

4.阻垢剂加药装置：
      通过投放一定量的阻垢剂，提升溶解度，防止碳酸盐、硅酸盐、硫酸盐在反渗透膜表面结晶析出。

5.安保过滤器：
      采用5微米聚丙烯熔喷滤芯，防止上级过滤单元漏掉大于5微米的杂质损坏膜的表面。采用5um孔径保安过滤器，使水得到进一步的净化，使水的浊度和色度达到优化。   

6.RO反渗透膜：反渗透设备部件。采用膜分离，将水中细菌、病毒等去除。

三、反渗透设备特点：
  1、原水电磁阀自动操控进水。
  2、预处理可自动定量冲刷。
  3、高压泵设凹凸压保护，水箱液位操控与水泵实行联动。
  4、在线监测水质，无需职守。

四、使用范围：

1.制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路、芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水；
2.制取热力、火力发电锅炉，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水；
3.制取饮料（含酒类）行业的饮用纯净水、矿泉水，酒类酿造水和勾兑用纯水；
4.海水、苦咸水制取生活用水及饮用水；
5.制取电镀工艺用去离子水；电池（蓄电池）生产工艺的纯水；汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗沌水；镀膜玻璃用纯水；纺织印染工艺所需的除硬除盐水；
6.石油化工业如化工反应冷却水；化学药剂、洗涤用品、化肥、化妆品制造过程用水；
7.宾馆、楼宇、社区机场房产物业的供水网络系统及游泳池水质净化；
8.线路板、电镀、电子工业废水处理及回用；
9.生活、制革、印染、造纸工业废水及垃圾渗沥液的处理；

五、技术参数：

  产品名称：1吨反渗透设备 

  产品型号：HY-2RO-1T/H304
  外形尺寸：2800mm*750mm*1700mm
  适用水压：0.3-0.6Mpa
  工作温度：4-40℃
  工作电源：380V/50Hz

  4寸RO膜：10支

 成功案例

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